为此战神提尔在此次中失去一只手臂，北京经过它的不断挣脱脱离了铁链，与魔君一起合作最后杀死维达尔，并吞下奥丁。

重点(f)单层WS2在0%和5%压缩下的能带图。2.较大的热膨胀系数能够产生压缩应力，工程原位实现单层WS2从直接带隙到间接带隙的转变。

这篇工作不仅加深了衬底和外延材料关系的理解，计划还为控制2DTMDCs的生长提供了有效的方法。发布(d)随温度变化的X,X-,I峰位置。通常，料电生长衬底的功能和它的晶体结构和性质息息相关。

【成果简介】近日，池方南方科技大学程春课题组报导了m面单晶石英能够作为一种多功能的衬底，池方有效控制单层二硫化钨(WS2)的生长方向并调控其能带结构和形貌维度。而低对称性的衬底如SrTiO3或SiC等表面具有各向异性的扩散势垒，面项目能够影响外延材料的形貌。

北京(c)生长的WS2随温度变化的PL谱图。

重点(e)WS2长径比随时间变化关系。原文链接：工程https://doi.org/10.1088/2631-7990/ab263e.DaiXZ,DengYH,VanBrackleCH,HuangJS.Meniscusfabricationofhalideperovskitethinfilmsathighthroughputforlargeareaandlow-costsolarpanels.Int.J.Extrem.Manuf.1,022004(2019).【作者简介】戴学增，工程2015年获清华大学硕士学位，目前为北卡罗来纳大学教堂山分校黄劲松教授课题组博士研究生。

对于大规模生产，计划高速涂布过程使得成膜主要在Landau–Levich区，因此对于形成的液态薄膜要采取有效的方法使其干燥结晶。发布典型特点是所制备的钙钛矿薄膜显现出与基底平行的(hk0)特定取向。

另外一个是涂布速度较高的Landau–Levich区域，料电成膜厚度随着速度的增加而变厚，料电在此区域由于涂布速度较快，溶液首先形成液态薄膜，随后再挥发溶剂。涂布区间图2在弯月面涂布中，池方根据成膜厚度以及涂布速度之间的规律，池方可分为两个区域：涂布速度低的区域被称为挥发区，成膜厚度在此区域内随着速度的增加而变薄，大部分溶剂在弯月面区域挥发形成固态薄膜。